专利名称：确定光刻物镜光学设计中光线偏振比退化度的方法
和装置
专利类型：发明专利
发明人：张立超,才玺坤,时光,武潇野,贺健康,梅林,隋永新,杨
怀江
申请号：CN201610638352.9申请日：20160805公开号：CN107687934A公开日：20180213
摘要：本发明公开了一种用于确定单束光线特定偏振比退化度的方法和装置。所述用于确定单束光线特定偏振比退化度的方法包括步骤：按照光刻投影物镜的像质要求设计膜系，并根据设计的所述膜系在实际样品上镀膜；对镀膜样品进行测试，确定在不同角度下的穆勒矩阵，拟合出每一矩阵元素对角度的函数关系；利用拟合出的穆勒矩阵元素对角度的函数关系，计算出该单束光线所对应的特定偏振比退化度。本发明解决了在传统光刻投影物镜开发中面临的保偏特性无法预测、只能在物镜制造完成后进行事后测量的问题，实现了光学设计阶段的偏振比退化度评价。
申请人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
地址：130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
国籍：CN
代理机构：深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：郝明琴
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