专利名称：激光光源装置和激光加工装置专利类型：发明专利
发明人：石津雄一,中野文彦,西村满申请号：CN201010002864.9申请日：20100121公开号：CN101783476A公开日：20100721
摘要：提供一种激光光源装置和具备该激光光源装置的激光加工装置，在把从籽光源以任意重复频率和任意脉冲幅度输出的脉冲光的射出和停止射出进行切换的结构中，在射出开始时能够得到具有希望峰值功率的脉冲光。本发明的激光光源装置(110)具备：包括光放大介质(光纤1)的光放大器、作为籽光源的半导体激光器(2)和作为激发光源的半导体激光器(3)。半导体激光器(2)在预先设定的主照射期间把脉冲光作为籽光射出，在预备照射期间把具有比脉冲光的峰值功率小的功率且实质的连续光作为籽光射出。半导体激光器(3)在预备照射期间发出比主照射期间激发光功率小的激发光。
申请人：欧姆龙株式会社
地址：日本京都府
国籍：JP
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：陶凤波
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