专利名称：衬底处理设备和器件制造方法专利类型：发明专利
发明人：J·洛夫,B·A·J·勒蒂克休伊斯,P·斯皮特,J·弗卢伊特申请号：CN201310399800.0申请日：20051221公开号：CN103472684A公开日：20131225
摘要：本发明提供一种衬底处理设备和器件制造方法，该衬底处理设备包括光刻设备，该光刻设备包括：用于提供辐射投影束的照射系统，用于在投影束的截面赋予图案的单独可控元件阵列，用于把已构图束投影到衬底目标部分的投影系统。该处理设备也包括设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置，和设置成从衬底供应装置传送每个输出的衬底连续段并经过投影系统，以使得投影系统能够沿着衬底的每个连续段把已构图束投影到一串目标部分上的衬底传送系统。在某些实施例中，从卷提供衬底的长段，但可选择地可以提供一串分立的薄片。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰维尔德霍芬
国籍：NL
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：张启程
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