专利名称：用于在光学系统中测量反射模式显示器的绝对光产
出量的方法
专利类型：发明专利
发明人：D·J·W·奥斯图恩,C·L·布鲁索内申请号：CN01821670.6申请日：20010503公开号：CN1484758A公开日：20040324
摘要：一种在具有折返光径的光学系统中测量偏振调制反射型显示器绝对产出量的方法。其步骤包括在具有第一偏振光束分离器，和反射型显示器的折返光径中测量第一光强度，L。第二光强度，L0，是通过采用以第二正交转动的偏振光束分离器来代替反射型显示器的非折返光径来测量的。计算了绝对产出量T此处T＝L/L。
申请人：3M创新有限公司
地址：美国明尼苏达州
国籍：US
代理机构：上海专利商标事务所
代理人：李家麟
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容